Application of Physical Vapor Deposition in Textile Industry

نویسندگان

چکیده

Abstract Currently, scientists are striving to produce innovative textile materials characterized by special properties. Therefore, attempts have been made use physical and chemical vapor deposition techniques modify the surface of materials, i.e., nonwovens, fabrics, knitted fabrics. By using these for modifying basic researchers obtained textiles with novel properties, which used in shielding textronics, or clothing, as well specialized accessories. The PVD process can be applied almost all materials. allows obtaining layers different thicknesses various This article is a review latest state art on methods destined purposes.

برای دانلود باید عضویت طلایی داشته باشید

برای دانلود متن کامل این مقاله و بیش از 32 میلیون مقاله دیگر ابتدا ثبت نام کنید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

application of brand personality scale in automobile industry: the study of samand’s brand personality dimensions

این تحقیق شخصیت برند سمند را در ایران با استفاده از مدل پنج بعدی آکر (1997) بعنوان یک چهارچوب بطور توصیفی سنجیده است. بنابر این چهارچوب که دراصل در 42 جزء (42 ویزگی شخصیتی) ودر پنج بعد شخصیتی طراحی شده بود ودر کشورها وصنایع مختلف آزموده شده بود, پرسنامه به زبان فارسی ترجمه شده و با استفاده از روشهای ترجمه معکوس و مصاحبه عمیق با 12 متخصص ایرانی به 38 جزء کاهش یافت. و نظرسنجی ای در پنج نمایندگی ا...

15 صفحه اول

The Application of Collaborative Design in Taiwan's Textile Industry

Due to Taiwan join WTO and quotas cancellation, textile goods faced global competition. With the short life cycle of the textile market and demand uncertainty in market, it leads to increasing pressure on the textile industry. Brand vendors start to search partners and hope to solve these problems through information sharing and collaboration. After sixty-year’s development, textile industry in...

متن کامل

Design issues in ionized metal physical vapor deposition of copper

The filling of deep vias and trenches with metal for interconnect layers in microelectronic devices requires anisotropic deposition techniques to avoid formation of voids. Ionized metal physical vapor deposition ~IMPVD! is a process which is being developed to address this need. In IMPVD, a magnetron sputter deposition source is augmented with a secondary plasma source with the goal of ionizing...

متن کامل

ذخیره در منابع من


  با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ژورنال

عنوان ژورنال: Autex Research Journal

سال: 2022

ISSN: ['1470-9589', '2300-0929']

DOI: https://doi.org/10.2478/aut-2020-0004